차세대반도체연구회

[발명의 명칭]

하드마스크 조성물, 이를 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스

[출원인]

제일모직주식회사

[발명자]

오승배, 전환승

[출원번호]

10-2010-0129982

[출원일]

2010년12월17일

[IPC]

G03F 7/004

[기술분야]

하드마스크 조성물, 이를 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스

[종래기술 및 그 문제점]

광학적 특성의 개선을 위하여는 하드마스크 층은 에칭 선택성이 높고, 다중 에칭에 대한 내성이 충분하며, 레지스트와 이면층 간의 반사성을 최소화하는 하드마스크 조성물을 사용하여 리소그래픽 기술을 수행하는 것이 요망되나, 종래의 하드 마스크층에 사용되는 조성물은 하드마스크 층이 에칭공정을 견딜 수 있을 정도의 에칭단계에서의 에칭 내성이 불충분

[발명이 이루고자 하는 기술적 과제(목적) 및 효과]

에칭 선택성이 높고 광학적 특성을 개선할 수 있는 하드마스크 조성물을 제공