[발명의 명칭]
그래핀 패턴의 제조방법
[출원인]
인텔렉추얼디스커버리 주식회사
[발명자]
양우석, 김형근, 김태영, 권순우, 김예나, 박원규, 장아랑, 신현석, 윤대호, 서광석
[출원번호]
10-2012-0073915
[출원일]
2012년 07월 06일
[IPC]
H01L 21/027
[기술분야]
그래핀 패턴 제조 기술분야
[종래기술 및 그 문제점]
o 종래기술: 그래핀 패턴 형성을 위하여 종래에는 리소그래피 공정이 주로 활용되어 왔음
o 문제점: 그러나 리소그래피 공정은 많은 공정단계가 요구되어 수율이 낮고 대면적 제조에 용이하지 않은 문제점이 있었음
[발명이 이루고자 하는 기술적 과제(목적) 및 효과]
o 해결하고자 하는 과제: 그래핀 패턴을 종래기술보다 간단한 방법으로 용이하게 형성할 수 있어 제조비용 절감과 대면적 그래핀 패턴을 제조하고자 함
o 해결수단: 기판상에 그래핀을 형성한 후 기판 상에 용액을 공급하여 용액에서 EISA(Evaporation-Induced Self Assembly, 증발유도 자기조립) 현상이 발생하도록 패턴형성지그를 이송하여 상기 그래핀 상에 용질 패턴을 형성하고 그 다음 용질 패턴에 대응하여 그래핀 패턴을 형성하는 수단 사용
o 효과: 리소그래피 공정을 사용한 그래핀 패턴 형성방법보다 용이하고 제조비용도 적게 들고, 그래핀 패턴이 매우 균일하게 형성되고 대면적 그래핀 패턴 제조 가능
