차세대반도체연구회

[발명의 명칭]

기판처리장치

[출원인]

주성엔지니어링(주)

[발명자]

황영욱, 박영복

[출원번호]

10-2008-0092588

[출원일]

2008.09.22

[IPC]

H01L 21/00

[기술분야]

기판처리장치에 관한 것으로, 커튼 월을 형성하는 가이드 가스에 의해 소스가스를 가이드하여 기판 상에 형성되는 박막의 증착 효율을 개선하는 기판처리장치에 관한 것임

[종래기술 및 그 문제점]

기판 처리용 가스분사장치(14)의 제 1 및 제 2 가스분사기(22, 24)에서 기판(16)으로 공급되는 소스가스 및 반응가스가 반응하여 박막을 증착할 때, 기판(16) 상에서 박막의 형성에 참여하지 않은 소스가스 및 반응가스가 챔버(12)의 외벽에 흡착하여 챔버(12)의 내벽을 오염시킬 수 있고, 또한 반응공간을 오염시키는 파티클(particle)을 생성하는 원인을 제공한다. 따라서, 소스가스 및 반응가스의 사용량과 비교하여 박막의 증착 효율이 감소하고, 파티클 등에 의해 박막의 특성이 저하되는 문제가 있었음

[발명이 이루고자 하는 기술적 과제]

커튼 월을 형성하는 가이드 가스에 소스가스를 가이드하여 기판 상에 형성되는 박막의 증착효율을 개선하는 기판처리장치를 제공하는 것을 목적으로 함