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[차세대 반도체 연구회] 2020년도 제2회 외부전문가 초청세미나

글쓴이 민경구 작성일 2020.11.03 10:53 조회수 819 추천 0

- 주제: 산화물-질화물 3중 구조와 게이트 적층공정을 이용한 고성능 3D 메모리 특성


- 일시: 2020.10.27.(화), 14:00~


- 장소: 정부대전청사 1동 203호 중회의실


- 발표: 이가원 교수(충남대 전자공학과)


- 자료: 현장배포(첨부파일 참조)

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