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[차세대 반도체 연구회] 2017년도 제6회 외부전문가 초청세미나

글쓴이 김효석 작성일 2017.09.14 15:49 조회수 1308 추천 0

반도체심사과(특허심사 2국) 차세대반도체연구회에서는 심사관들의 최신기술동향에 대한

 

이해도 제고를 위하여 아래와 같이 외부전문가 초청세미나를 개최하오니 많은 참석 바랍니다.

 

-----------------------------  아   래 ----------------------------

■ 일시: 8월 29일(목), 09:30~11:30(120분)

■ 장소: 대전청사 2동 205호

■ 강사: Ton van Hoef (ASML 부사장, IP총괄)

■ 주제: 반도체 미세회로 패턴기술의 정점, EUV 노광기술의 미래

 

참고사항: 강의는 영어로 진행되며, 질문 및 응답에 대한 통역은 지원됩니다.
            ASML사는 극자외선(EUV) 노광기(NXE3400B 모델의 대당가격 2500억원)를 세계 최로로 상용화한

            네덜란드 기업으로 10나노이하의 회로패턴의 시대를 여는 EUV 노광기의 기술현황을 알 수 있는 좋은 기회입니다.

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