차세대반도체연구회

반도체심사팀의 차세대반도체연구회 세미나에서 2007.06.11에서 발표한 자료로서, 상세한 설명 중 효과 기재에 관한 심결에 관하여 발표한 자료입니다. 1. 발표대상 자료 : 거절결정불복심판 2006원812 2. 발명의 명칭 : 플라즈마 처리장치 및 이를 사용한 질화막 형성방법 3. 내용 : 상세한 설명에 기재한 효과에 관한 진보성 판단 4. 이건 출원발명의 경위 2003.11.05. 특허출원 (10-2003-0077924) 2005.06.30. 의견제출통지서 - 제29조제2항 특허청구범위 제1 내지 6항(전항) - 인용발명 한국공개특허공보 특2000-50308호 2005.08.31 의견서 및 명세서등보정서 - 특허청구범위 제1항에 제2항 내지 제4항을 병합 보정 - 특허청구범위 제5항 인용항 보정 - 특허청구범위 제2항 내지 제4항, 제6항 삭제 2005.12.28. 거절결정서 - 제29조제2항 특허청구범위 제1항 및 제5항 2006.01.27. 거절결정불복심판 청구 2006.02.27. 심사전치에 의한 명세서등보정서 - 특허청구범위 제1항 청구범위감축(from 상세한 설명) 보정 - 특허청구범위 제6항 신설 2006.04.07. 보정각하결정서 - 제47조제3항 청구범위 감축, 오기정정, 불명료 기재 석명 - 제47조제4항제1호 청구범위의 실질적 확장 또는 변경 2006.12.19 심결통지(취소환송) - 원결정 심리미진(제29조제2항) 2007.01.04 등록결정