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차세대 반도체 연구회 판례연구 세미나 발표

글쓴이 오창석 작성일 2007.08.07 00:00 조회수 1738 추천 0 스크랩 0
발명의 상세한 설명에는 챔버 세정 방법으로 1단계; 2단계; 3단계를 포함하여 이루어진다고 기재하였으나 청구항 제1항의 세정 방법으로는 그 중 2단계를 기재하지 않고 1단계; 3단계로 기재한 것이 특허법 제42조 제4항 제1호의 규정을 위반한 기재불비에 해당하는지 임
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