차세대반도체연구회

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"국내 반도체 공정기술, 첫 국제 표준 채택" 정현정 기자 iam@zdnet.co.kr 2013.01.14 국내 반도체 공정기술이 사상 처음으로 국제표준으로 채택됐다. 지난 수십 년간 북미, 일본이 선점해 온 반도체공정 표준 분야에서 최초로 이룬 쾌거다. 한국반도체산업협회(KSIA)와 국제반도체장비재료협회(SEMI)는 반도체 장비 간 통신 규격에 관한 국내 반도체 공정기술 'SEMI E5-0712'가 국제표준으로 채택됐다고 15일 밝혔다. 최근 하이테크산업에서는 기술력 우위보다도 표준화 선점이 경쟁력 확보의 핵심요소로 부각되고 있다. 우리나라는 세계 최고 수준의 반도체 공정기술을 보유하고 있음에도 반도체공정 분야의 표준화 활동이 미미한 실정이다. 반도체공정에 사용되는 850여개의 SEMI 국제표준 중 국내에서 제정한 표준은 한 건도 없었다. 이에 KSIA와 SEMI는 2008년부터 삼성전자 및 SK하이닉스를 중심으로 국내 반도체장비업체들과 함께 공정분야 표준화 활동에 박차를 가해 4년여 만에 국제표준 제정에 성공했다. ▲ 국내 반도체 공정기술이 사상 처음으로 국제표준으로 채택됐다. 국제표준 SEMI E5-0712는 반도체 장비 간 통신 규격에 관한 것으로 반도체 제조 팹의 자동화에 필수적인 소프트웨어 분야 표준이다. 팹 자동화 설비변경 시 발생하는 장비간 통신오류를 낮춰 장비 간 통신 편의성을 높인 것이 특징이다. 협회는 이번 국제표준 제정이 반도체 강국의 위상을 높임과 더불어 국제표준을 실질적으로 주도해 나갈 수 있는 계기를 마련한 것으로 향후 반도체공정분야 표준화 선점을 위한 의미 있는 출발점이 될 것으로 기대하고 있다. 이번 표준 제정은 KSIA에서 지식경제부 산업융합원천기술개발사업으로 수행중인 ‘차세대 반도체 장비 및 소자의 표준화 기술개발 과제’의 일환으로 추진됐다. 향후에도 지식경제부와 KSIA는 국내 장비업체들의 의견을 반영한 국제표준 개발활동을 지속적으로 지원한다는 방침이다.