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반도체소자 제조공정의 기본 프로세스 기술 ~플라즈마 에칭 프로세스를 중심으로~

글쓴이 심병로 작성일 2009.01.08 00:00 조회수 2320 추천 0 스크랩 0
(요약) 본 자료는 2008년9월19일 (주)윕스의 반도체 선행기술조사팀에 대한 선행기술 조사원의 조사능력 및 조사보고서의 품질향상을 위한 반도체 공정교육의 일환으로 세미나 발표한 것으로서, 선행기술 조사원의 역량강화에 도움을 주고 또한플라즈마 식각공정을 포함한 반도체 공정의 전반적인 개요을 파악함으로써 선행기술조사에 도움을 주고자 한 것임. (내용) I. Lithography Process II. Plasma Etching Process III. Plasma Etcher IV. IPC 분류 및 검색단어 V. APPEDIX
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