기술동향자료실
반도체소자 제조공정의 기본 프로세스 기술 ~플라즈마 에칭 프로세스를 중심으로~ |
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글쓴이 심병로 2009.01.08 00:00 | 조회수 2320 0 스크랩 0 |
(요약)
본 자료는 2008년9월19일 (주)윕스의 반도체 선행기술조사팀에 대한 선행기술 조사원의 조사능력 및 조사보고서의 품질향상을 위한 반도체 공정교육의 일환으로 세미나 발표한 것으로서, 선행기술 조사원의 역량강화에 도움을 주고 또한플라즈마 식각공정을 포함한 반도체 공정의 전반적인 개요을 파악함으로써 선행기술조사에 도움을 주고자 한 것임.
(내용)
I. Lithography Process
II. Plasma Etching Process
III. Plasma Etcher
IV. IPC 분류 및 검색단어
V. APPEDIX
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