차세대반도체연구회

- 요약 - 나노임프린트 리소그래피 (NIL) 방식은 비전통적인 리소그래피 기술방식으로서, 낮은 가격으로 높은 처리량을 요구하는 고분자 나노구조패턴에 적용된다. 또한, 레지스트의 화학적, 물리적 특성을 바꾸기 위하여 광자 또는 전자를 이용해 패턴을 작성하는 방식인 전통적인 리소그래피 접근방식과 달리, NIL은 레지스트 물질의 직접적인 기계적 변형에 의존한다. 따라서, 전통적인 기술방식인 광 회절 또는 빔 산란으로 정의되는 기존 패턴크기의 한계를 뛰어넘는 분해능을 얻을 수 있다. 이 논문에서는 나노임프린팅 금형 및 표면특성을 위한 재료물질의 필수요건과 성공적이면서 신뢰성 있는 나노구조패턴의 복제화에 중점을 준 나노임프린팅의 기본원리에 대해 소개하고 있다. - 내용 - 분석자 서문 1. 개요 2. NIL 금형 2.1 금형제조 2.2 금형표면준비 2.3 연성불소 고분자 금형 3. NIL 레지스트 3.1 열가소성 레지스트 3.2 UV 경화성 레짓트 3.3 새로운 물질의 개발 3.3.1 실록산 혼성중합체 3.3.2 빠른 열경화용 액체 레지스트 3.3.3 실온 나노임프린팅을 위한 UV 경화용 액체 레지스트 3.4 그 외의 임프린트용 물질 4. 나노임프린트 공정 4.1 공동충진공정 5. 다양한 NIL 기술 5.1 역-나노임프린팅 기술 5.2 융합형 나노임프린트 기술과 포토리소그래피 기술 분석자 결론 Reference * 첨부파일: 'Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements' Adv. Mater. 2007, 19, 495-513을 분석한 논문자료입니다