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보도자료 글내용
제목 특허청, ’14년 정부 R&D 특허성과 조사·분석 결과 발표
담당부서 산업재산창출전략팀 작성일 2015-12-23
조회 2145
특허청, ’14년 정부 R&D 특허성과 조사·분석 결과 발표
- 특허출원 등 양적성과와 기술이전 모두 지속 증가 -

□ 정부 R&D로 창출된 특허성과를 조사·분석한 결과, 정부 R&D 특허의 양적성과 및 기술이전 건수는 지속적으로 증가하고 있으나, 특허의 질적 수준은 국내에 출원한 외국인에 비해 여전히 낮고, 기술이전 규모는 크지 않아 개선이 필요한 것으로 나타났다.

 ◦ 특허청(청장 최동규)은 최근 5년('10년∼'14년)간 정부 R&D 사업으로 창출된 특허성과의 양적․질적 수준과 활용실태, 관리 현황 등을 조사‧분석하여 그 결과를 22일 발표하였다.


< 양적‧질적 수준 및 활용 현황 >

□ 특허청에 따르면 정부 R&D 사업으로 창출된 국내 특허출원은 ’14년 27,005건으로 국내 특허출원 전체(210,288건)의 12.8%(’10년 10.6% 대비 2.2%p 증가)를 차지하였다. 최근 5년간 연평균 약 10.7%씩 증가하여 전체 특허출원 증가율(5.4%)의 2배였다. 특허생산성*도 1.53으로 미국(공공연 0.26) 및 일본(대학 0.33)에 비해 매우 높았다.
   * 연구개발비 10억원당 특허출원 수

□ 이에 비해, 특허의 질적 수준은 다소 낮은 것으로 나타났다. 최근 5년간 등록특허를 분석한 결과, 정부 R&D 우수특허(상위 3등급) 비율은 국내에 출원한 외국인의 30% 수준이었다.
   * 특허가치평가시스템(SMART) 우수특허비율 (정부 R&D) 12.5% vs 외국인 41.7%
     OECD 특허품질지표(PQI) 우수특허비율 (정부 R&D) 13.0% vs 외국인 49.0%

□ 한편, 정부 R&D 특허성과의 기술이전 건수는 ’14년 2,096건으로 최근 5년간 연평균 17.7%씩 급증하였다. 다만 1천만원 미만의 소액 기술이전이 연평균 25.6%(’10년 309건 → ’14년 768건)로 빠르게 증가하고, 계약당 기술이전 금액도 감소 추세*에 있어 개선 대책이 필요한 것으로 분석되었다.
   * (’10) 42.8 → (’11) 35.5 → (’12) 42.4 → (’13) 33.1 → (’14) 23.4백만원

< 특허성과의 수집‧관리 현황 >

□ 이미 출원성과로 제출된 후 ’14년에 등록성과로 제출된 특허성과를 조사한 결과, 조사대상의 43.3%(4,954건/11,449건)가 출원/등록성과의 R&D 과제정보가 서로 달라 이를 일치시킬 필요가 있었다.

□ 한편, 최근 5년간 개인명의로 신고된 특허성과(2,301건)*에 대한 범부처 실태조사를 실시하여, 연구기관 명의로 권리환원이  필요한 968건(42.1%)을 확인하였고, 해당 건은 관련 기관에서 명의변경을 실시하였다.
  * 출원‧등록 명의자가 개인인 경우로, 개인소유가 적절한지에 대한 검토 필요 대상

□ 아울러, 특허등록 후 연차별 관리현황을 분석한 결과, 정부 R&D 특허유지율은 민간에 비해 등록 후 4~8년까지 높으나, 연차료 부담이 증가하는 7~9년차에 다수 특허가 포기되어 9년차부터는 민간의 특허유지율과 역전되는 것으로 조사되었다.
   * (정부/민간 R&D 특허등록유지율) (5년차) 89.7%/77.7% → (9년차) 52.9%/55.2%

 < 정부 R&D 특허성과 관련 '16년 중점 추진 사항 >

□ 특허청은 이번 정부 R&D 특허성과 분석결과를 바탕으로 지원 사업을 개선하고 내년에도 다양한 지원 정책을 추진할 계획이다.

□ 먼저, 정부 R&D 특허의 질적 수준 제고를 위해 기술개발 후 특허출원 준비 과정에서 우수기술을 선별하여 전략적으로 권리화하는 ‘정부 R&D 특허설계 지원’ 프로그램을 도입한다.
   * ’16년 예산 2,240백만원, 대학‧출연연 중대형 R&D 과제 56개 지원 예정

 ◦ 미활용특허의 활용가능성을 진단하고 특허관리 전략(유지/포기 등)을 수립하는 ‘공공기관 보유특허 진단’ 사업도 신규 추진하여 대학‧공공연의 체계적인 특허관리도 지원한다.
   * ’16년 예산 400백만원, 미활용특허 다수 보유 대학‧출연연 10개 기관 지원 예정

□ 아울러, 정부 R&D 특허성과 수집‧관리 과정의 불합리한 관행 개선도 적극 추진한다. 

 ◦ 현재, 특허성과는 출원성과와 등록성과로 구분하여 R&D 부처가 각각 수집한다. 이 과정에서 동일한 발명을 기재한 하나의 특허출원이 서로 다른 과제의 출원/등록성과로 잘못 관리되는 사례가 발생한다. 

 ◦ 이를 개선하기 위해 R&D 부처는 출원성과만 정확하게 수집하고, 그 출원성과가 등록되면 특허청에서 등록성과로 확인하여 R&D 부처로 제공하는 특허성과 수집 체계 개선을 추진하였다. 관계부처와 협의를 완료(‘15.10월)하고, ’15년 정부 R&D 특허성과 수집(’16년초)부터 적용한다.

 ◦ 또한, 국가연구개발 사업 성과가 사적으로 유용되지 않도록 관리를 대폭 강화한다. 부당한 개인명의 특허 보유자의 R&D 사업참여 제한을 강화(현행 1년 → 개선 2년)하고, 개인명의 특허 현황를 정기적으로 모니터링 한다. 관련규정‧위반사례를 종합한 ‘국가 R&D 특허관리 가이드라인’도 제작하여 연구기관 및 연구관리기관에 배포(‘16년초)할 계획이다. 

□ 한편, 금번 특허성과 조사‧분석 결과는 ’16년초 최종 보고서로 발간하여 특허청 홈페이지(www.kipo.go.kr) 및 정부R&D 특허성과관리시스템(www.rndip.or.kr)을 통해 누구든지 확인할 수 있도록 공개할 예정이다.

붙임 : 보도자료 1부. 통계현황 1부.
문의 : 산업재산정책국 산업재산창출전략팀 복상문 사무관(042-481-5931)
첨부파일 PDF 파일특허성과 조사분석.pdf
첨부파일 PDF 파일(붙임)조사분석결과_주요_통계표.pdf





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