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보도자료(상세)

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“2007년 1/4분기 특허기술상 시상식 개최”
담당부서
특허심사기획과
연락처
1111-1234
작성일
2007-05-28
조회수
2964
- 「표시 소자용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조방법」이 세종대왕상 수상 -

특허청(청장 전상우)과 중앙일보(대표이사 송필호)가 공동으로 수상하는 「2007년 1/4분기 특허기술상 시상식」이 5월 25일(금) 한국지식재산센터(KIPS, 강남구 역삼동 소재)에서 개최되었다.

특허기술상은 특허청에 등록된 우수기술을 발굴·시상함으로써 발명자의 사기와 발명의욕을 고취시키기 위해 1992년부터 시행되어 왔으며, 매 분기별 우수 특허 3건과 우수 디자인 1건을 선정·시상하고 있다.

금번 특허기술상 특허부문 영예의 세종대왕상(1위)은 「표시 소자용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조방법」을 발명한 LG필립스엘시디㈜ 류순성 발명자 외 2명, 충무공상(2위)은 「포토리소그라피 공정을 위한 반도체 제조장치」를 발명한 세메스㈜ 김동호 발명자 외 2명, 지석영상(3위)은 「이미지 센서에서의 렌즈 셰이딩 현상 보정 방법 및 장치」를 발명한 엠텍비젼㈜ 노요환 발명자 외 1명이 수상하였으며, 디자인부문의 정약용상은 「공기청정기」를 창작한 박재현 창작자가 수상하였다.

세종대왕상을 수상한 발명은 LCD용 박막 트랜지스터(TFT) 기판을 제조할 때 적용되는 기술에 관한 것으로써, 기존에는 통상 하나의 TFT 기판을 만들 때 4~5회 정도의 마스크 공정을 거치던 것을 리프트-오프 방법을 사용하여 3 마스크 공정으로 줄이는 기술이며, 약 15~25% 정도의 공정단축 효과가 있는 것으로 평가된다. 현재 국내 업체들은 대부분 4 마스크 공정을 사용하고 있으며 일본이나 대만 업체의 경우에는 아직까지도 일부를 제외하고는 5 마스크 수준에 머물러 있다.

충무공상을 수상한 발명은 도포공정과 현상공정을 포함하는 포토리소그라피 공정을 위한 반도체 제조장치에 관한 것으로써, 종래에는 현상공정만 진행할 경우에도 도포공정 영역을 반드시 거쳐야 하는데 반해, 본 발명은 도포공정과 현상공정을 완전히 분리하여 기판의 이동을 최소화하는 기술이며, 공정의 컴팩트화는 물론 Unit의 활용도를 최대한으로 높일 수 있는 것으로 평가된다.

지석영상을 수상한 발명은 디지털 카메라, 카메라폰 등에 적용되는 기술로써, 렌즈 중심부와 주변부의 광투과율 차이, 렌즈의 광투과 중심과 이미지 센서 중심의 불일치, 파장별 투과율 차이에 따른 색상 불균일 현상 등으로 인한 화질저하를 다양한 디지털 데이터 처리 기법을 이용하여 영상 데이터를 보정함으로써 화질을 대폭 향상시키는 기술로 평가된다.

정약용상을 수상한 디자인은 한국의 전통적인 도자기의 형상을 현대의 공기청정기에 적용함으로써, 전통의 도자기가 주는 단아한 정숙감과 청정감을 현대적 감각으로 재현한 창조성이 돋보이며, 특히 상부에 다양한 식물을 심을 수 있는 화분 기능도 포함되어 있어 실용성도 높을 것으로 기대된다.

첨부 : 보도자료 1부.
문의 : 전기전자심사본부 특허심사정책팀 서기관 신용주 (042-481-5395)
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