□ IMF 이후 전체 레이저 분야의 출원은 꾸준한 증가 추세임.

o 1998년-134건, 2000년-177건, 2001년-186건으로 연평균 약 12%의 증가율을 나타냄.
- 전체 출원 중 97%가 특허로 출원.

□ 전체 레이저 분야 출원 중 "반도체 레이저" 분야의 출원 비율 증가.

o 1998년-68건(51%), 2000년-97건(55%), 2001년 119건(64%).
o CD, DVD, 레이저 프린터 등 반도체 레이저 응용 시장의 활성에 기인.

□ 레이저 분야의 외국인 출원 비중은 상대적으로 높은 수준임.

o 5년 평균 내·외국인 출원비율은 내국:외국=5:4.
- 전체 특허 출원의 내·외국인 출원비율은 내국:외국=7:3.

□ 레이저 분야의 다출원 기업별 구성분포를 보면,

o 3대 국내 다출원 기업으로서 삼성전자, 엘지전자, 전자통신연구소가 1996년 이후
전체 내국인 출원 건수의 56% 차지.
o 3대 국외 다출원 기업으로서 소니(일), 사이머(미), 미쓰비시(일)가 1996년 이후
전체 외국인 출원 건수의 24% 차지.

□ 내국인 출원 중 대기업·연구소·개인 및 중소기업의 출원비중은

o 전체적으로 64:22:14로 나타나 대기업 출원이 다수를 이루고 있으나,
o 개인 및 중소기업의 출원도 최근 5년간 대폭적으로 증가하고 있는 추세임.
- 출원비중 약 5배 증가; (1997년) 4.5% => (2001년) 23.3%

□ 반도체 레이저 관련 기술분야별 출원 동향은

o 세부기술분야를 활성영역, 광공진기, 주변장치, 광파 가이드, 출력제어 분야 등으로
구분할 수 있으나,
o 대부분(73%)이 활성영역과 관련된 출원으로
- 활성층 적층 구조인 양자우물 구조 또는 초격자 구조 관련 기술과
- 활성층 재료로 사용되는 갈륨 나이트라이드(GaN) 등의 III-V족 화합물 조성과
관련된 특허가 주를 이루고 있음.

□ 향후 전망

o 전체적으로 반도체 레이저 관련 분야의 출원은 반도체 레이저 응용 시장이 점차 커짐에
따라 계속 증가할 것으로 예상되고,
- 광통신용 장파장 반도체 레이저 분야 뿐 아니라 광기록용 단파장 반도체 레이저
분야에서도 꾸준한 기술 향상이 전망되며,
- 반도체 레이저를 이용한 고휘도 조명 관련 분야의 발전이 향후 기대됨.


<첨부> 레이저분야 출원현황


* 문의 : 심사4국 반도체1심사담당관실 박준영 사무관. 전화 042-481-5729