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먼저 반도체 기술 분야입니다.
첫 번째, 아시아경제 보도 내용입니다. 아주대학교와 삼성종합기술원 공동 연구팀이 반도체 공정의 정밀도를 획기적으로 높일 수 있는 선택적 원자층 증착 기술 개발에 성공했습니다. 선택적 원자층 증착은 반도체 기판의 특정 표면에서만 증착이 이루어지도록 조절하는 기술로, 기판의 원하는 위치에 필요한 물질만을 입혀 정밀한 증착과 새로운 구조 제작이 가능합니다. 연구팀은 이산화지르코늄 기판을 활용해 특정 영역에서 선택적으로 증착이 이뤄지는 메커니즘을 분석하고 효과적으로 제어하는 방법을 실험적으로 입증했습니다. 이 기술을 활용하면 기존 공정을 대거 생략할 수 있어 고가의 극자외선 노광장비 없이도 반도체 패터닝이 가능해져 제조 비용을 혁신적으로 절감할 수 있습니다.
두 번째, 로이터 보도 내용입니다. 대만 TSMC가 미국 캘리포니아에서 개최된 '2025 북미 테크 콘퍼런스'에서 차세대 반도체의 성능과 전력 효율성을 크게 개선할 수 있는 새로운 공정기술 'A14'를 발표했습니다. A14 공정은 TSMC가 올해 말 본격 생산 예정인 N2 나노미터 기술을 기반으로 게이트올어라운드 2세대 및 나노플렉스 프로 아키텍처로 설계됩니다. 나노플렉스 프로는 설계자가 특정 애플리케이션이나 워크로드에 대해 최적의 소비전력, 성능, 면적 달성을 위해 트랜지스터 구성을 세밀하게 조정할 수 있도록 하는 아키텍처입니다. 이 기술로 같은 전력 소모 시 성능을 15% 향상시키거나 같은 성능 유지 시 전력을 30% 절감할 수 있습니다.
세 번째, 로이터 보도 내용입니다. 미국 인텔이 '인텔 파운드리 다이렉트 2025' 행사를 통해 올 하반기부터 1.8나노 공정으로 칩 대량 생산을 골자로 하는 파운드리 경쟁력 강화 방안을 공개했습니다. 전문가들은 인텔의 18A 공정이 TSMC의 2나노 공정에 버금가는 것으로 분석하고 있어, 수율을 성공적으로 끌어올린다면 TSMC 및 삼성전자와 경쟁이 가능할 것으로 판단하고 있습니다.
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