□ 반도체 플라즈마 에칭장비 특허출원 급증

ㅇ 반도체 제조의 핵심장비인 플라즈마 에칭장비분야의 특허출원이 2003년 들어 전년에 비해 무려 77%가 늘어난 159건으로 급성장한 것으로 나타남(‘02년 90건).

ㅇ 국내 전체 특허출원이 11.8% 성장(‘02년 106천건 → ’03년 119천건)한 것에 비하면 반도체 플라즈마 에칭 장비 분야의 특허 출원은 폭발적인 증가 추세라 할 수 있음.

□ 그러나, 출원 증가의 대부분은 외국기업 출원

ㅇ 반도체 플라즈마 에칭장비의 ‘03년 출원 증가율은 내국출원이 9% 성장한 반면, 외국출원은 286%로 급성장함.

ㅇ 출원점유율에서도 ‘02년에는 내국인 출원이 76%를 점유했으나, ‘03년 들어 외국인 출원에 역전당한 것으로 나타남(내국인 47%, 외국인 53%).

□ 외국출원 급증은 국내업체 견제가 목적

ㅇ 과거 반도체 장비는 거의 전량 수입에 의존했으나, 최근 활발한 연구개발로 반도체 장비의 국내 공급 비율이 23%수준에 도달하였음.

ㅇ 반도체 장비의 국산화가 신속히 진행됨에 따라 외국기업은 국내업체를 견제하고, 반도체장비 시장에 특허장벽을 형성하기 위해 출원을 늘리고 있는 것으로 보임.

□ 국내 반도체 장비업계에서도 적극 대응이 필요

ㅇ 반도체 플라즈마 에칭 장비는 300mm 대면적 웨이퍼 가공시 요구되는 저압 상태에서의 초미세 패턴 가공기술과 높은 공정 처리율 등에 적합하여 차세대 나노급 반도체 제조의 필수적인 장비로 인식되고 있으며, 각국이 활발히 연구개발을 추진하고 있음.

ㅇ 플라즈마 에칭 장비는 국산화가 빠르게 진행되고 있고, 향후 해외 수출에도 크게 기여할 것으로 예상되나, 이에 따라 특허분쟁이 발생할 가능성도 높아지고 있으므로 경쟁력 있는 특허를 확보하는 등 관련 업체들의 적극적인 대응책 마련이 필요함.