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유가는 급상승, 화학소재기술은 제자리걸음
담당부서
화학생명공학심사본부
연락처
1111-1234
작성일
2005-12-01
조회수
3255
유가는 급상승, 화학소재기술은 제자리걸음
-고부가가치 특화제품이 절실-

석유화학산업은 모든 산업의 근간이 되는 기초 원료를 제공하는 핵심 기간산업으로, 납사분해설비(Naphtha Cracking Center, NCC)에서 생산된 에틸렌 또는 프로필렌 등을 폴리올레핀, ABS, PS 등으로 전환하여 전자, 자동차, 건설, 항공 등 모든 산업의 기초소재를 제공하는 자본집약적이고 기술집약적인 산업이다. 또한 최근에는 IT, BT 및 NT 등의 각종 첨단산업에 요구되는 다양한 기능성 소재를 공급함으로써 이들 산업의 기술혁신 등을 더욱 촉진하고 있다.
그러나, 석유화학제품의 경우 해외 의존도가 높아 이들 수입품목의 국산화를 통한 석유산업기술의 경쟁력 확보와 최종상품의 고부가가치화 등이 절실한 실정이다.

◆한국의 특허동향 = 주요 분석대상기술은 고기능성 단량체 1,3-Propandiol(PDO), 고리형 올레핀 고분자(COC), 메틸메타아크릴레이트 제조(MMA), 이소노닐 알콜 제조(INA), PEN 수지/필름제조(PEN), 및 선형 알파 올레핀(LAO)에 관한 것으로 전체적인 출원건수는 증가하고 있기는 하나 이는 외국인에 의한 출원이 76.2%에 달하며 따라서 실질적인 질적 증가로 보기에는 어렵고 이는 핵심기술부재, 국내경기의 정체, 및 유가의 급등이 주된 장애 요인이다. 구체적으로 내국인 세부기술별 점유율은 PEN과 COC과 같은 유기고분자 합성과 이의 응용분야에 대한 출원은 비교적 활발하고 MMA, LAO, INA와 같은 비환&탄소환 화합물의 합성 및 촉매 등에 관한 기초화학분야의 출원은 저조한 것으로 분석되었다(그림1).

◆외국의 특허동향 = 한국은 전 분야에 걸쳐 특허활동이 부진하나, 미국은 한국에 특허출원시 INA, LAO, PDO분야, 일본출원시 PDO분야에 대한 특허출원을 집중하고 있으며, 유럽에 출원시는 MMA와 PEN을 제외한 전 분야에서 특허활동이 활발한 것으로 분석되었다. 이는 각국가별 기술특성이 반영된 것으로 보여진다.
기술별로는 COC, INA는 미국과 독일이 강세, LAO는 미국, 프랑스가 강세, MMA는 일본과 영국이 강세를 보이고 있으며, PDO는 한국, 미국, 영국이 강세를 나타내고 있고, PEN는 유독 일본이 강세를 보이고 있는 것으로 분석되었다.

◆핵심기술분석 = 국내의 주된 관심분야 PDO분야에서는 내국인에 의해 유기물 합성 분야인 C07C에서 7건, 미생물을 이용한 합성분야인 C12N에서 1건 및 촉매분야에서 1건의 특허 출원이 조사되었으며, 외국인과 비교시 미생물을 이용한 합성방법에 대한 특허 출원이(외국인의 경우 5건, C12N과 C12P) 절대적으로 저조하였다.
또한 PEN분야에서는 내국인이 필름 형성과 관련된 IPC C08J와 B29C에서 각각 49건 및 9건, 이를 응용한 적층체 B32B 분야에서 28건으로 주로 필름의 성형 및 적층분야에 출원이 집중되어 있고, 응용분야로는 자기기록매체와 관련된 G11B에 대한 출원이 활발한 편이다. 외국인은 포토레지스트, 광학요소로의 응용, 반도체 장치, 축전기 등 PEN을 다양한 기술분야에 적용시키고 있는 것으로 나타났으며 다양한 응용을 위해서는 기초소재의 중요성이 더욱 강조되고 있는 것으로 판단된다.

◆결론 및 대응 = 주목할만한 점은 한국이 2000년을 기준으로 차츰 특허등록건수 등이 증가하는 것으로 분석되고 있는 바, 이는 고무적이라고 할 수 있다. 이는 국내 석유화학업계가 90년대 말부터 2010년 세계 일류의 경쟁력 확보라는 비전을 세우고 이를 위해 관련 기관 및 기업이 적극 참여하여 차세대 핵심 고분자소재 기술개발, 촉매개발, 기초공정 및 고부가가치 유도체 개발을 위해 노력하여 왔기 때문이다.
하지만, 아직까지는 주요 원천기술의 부재로 인해 경쟁력이 떨어지고 있는 실정이고, 향후 산·학·연·관의 유기적인 협력을 통한 효율적인 기술개발 시스템 구축하여 추진한다면 고부가가치 제품을 개발하는 신공정들을 특성화하여 기술종속국에서 기술공여국으로의 전환을 추진해야 할 것이다.

1. 제 1출원인 기준
2. '82~2002년 특허출원 대상

<그림 1> 한국특허로 본 NCC 분야 세부 기술별 점유율

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