특허청에서는 최근 21년간 노광장치의 핵심 요소기술 분야에 대한 한국·미국·일본 3국의 특허출원을 분석한 결과(단, 미국은 등록특허), 그 동안 상대적으로 저조했던 우리나라의 특허출원 건수가 최근들어 대폭 증가되고 있다고 밝혔다.
< 노광장치의 핵심 요소기술 분야 출원 점유율 변화 >
’85 ～ ’00’01 ～ ’05한 국16.2 %31.8 %미 국35.2 %36.8 %일 본48.6 %31.4 %
최근 반도체 칩의 소형화와 대용량화 추세로 인한 회로 패턴의 미세화로 고정밀도의 노광장치 개발이 요구되어지고 있다. 반도체 웨이퍼에 만들려고 하는 회로패턴을 지니고 있는 마스크를 통해 빛을 통과시켜 그 형태를 마스크로부터 감광제로 옮기는 작업, 즉 광원을 이용하여 원하는 부분에 미세 패턴을 형성시키는 기술을 광 미세 가공기술(Photolithography)이라 하고, 이러한 공정을 수행하는 장치를 노광장치라고 한다.

1985년부터 2005년까지 21년간 한국, 미국 및 일본에서 출원된(단, 미국은 등록특허) 반도체 및 디스플레이용 노광장치의 핵심 요소기술 분야(Illuminator, Reticle System, Plate Handler 및 Edge Exposure)에 대한 특허를 분석한 결과 총 출원건수는 4,804건이고, 기술별로는 Illuminator 분야가 전체의 48%(2,342건)로 가장 높은 점유율을 보이고 있으며, 그 뒤로 Reticle System 분야 30%(1,438건), Plate Handler 분야 17%(803건), Edge Exposure 분야 5%(223건)으로 나타났으며, 나라별 점유율은 한국 21%(1,012건), 미국 36%(1,717건), 일본 43%(2,077건)인 것으로 나타나고 있다.

일본의 특허출원 건수가 한국이나 미국에 비해 많았고, 이러한 경향은 Illuminator 분야에서 뚜렷하였다. 일본에서는 세계 노광 장치 시장 점유율 1위인 Nikon사를 비롯하여 Canon사 등의 노광 장치 업체들의 특허가 계속 출원되고 있기 때문으로 판단된다.

그러나, 최근 5년간(‘01년~’05년) 출원 점유율만 보면 한국 31.8%(475건), 미국 36.8%(549건), 일본 31.4%(468건)으로 지난 16년간(‘85년~’00년) 출원 점유율 한국 16.2%(537건), 미국 35.2%(1168건), 일본 48.6%(1609건)과 비교해 볼 때, 그 동안 상대적으로 저조했던 우리나라의 특허출원 건수가 최근들어 대폭 증가되고 있음을 알 수 있다.

국내 기업의 경우 삼성전자와 하이닉스 반도체 등이 특허활동을 보이고 있으나 주로 국내에서의 특허활동에 치우치고 있으며 삼성전자의 경우 해외출원 비율은 8.4%로 국내출원 비율 91.6%에 비해 매우 낮은 편으로 외국업체들의 높은 기술장벽을 뛰어 넘기 위해서는 기업뿐만 아니라 국가차원에서 노광장치 핵심 요소기술 분야의 중요성을 인식하고 좀 더 적극적인 투자 및 연구개발로 기술력을 확보하는 것이 필요하며, 또한 해외출원 활동을 통한 특허권 확보가 절실히 필요하다고 하겠다.

붙임 : 보도자료 1부.
문의 : 전기전자심사본부 전기심사팀 사무관 송원선 (042-481-5735)