제19차 한·일 특허청장 회담 개최
- 한일간 특허심사 하이웨이의 이용 확대 방안 모색의 계기로 삼아 -

전상우 특허청장은 2007.11.27.(화) 대전 특허청에서 고에즈카 마사히로 (KOEZUKA Masahiro; 肥塚 雅博) 일본 특허청장과 제19차 한·일 특허청장 회담을 갖고, 양국간에 실시 중인 특허심사하이웨이를 비롯한 양청간 각 분야별 협력 사항, 한·중·일 3국간의 협력 및 국제무대에서의 양국간 협력 방안 등에 대해 논의할 예정이다.

‘특허심사 하이웨이’란 한·일 양국에 공통으로 제출된 특허출원을 우선심사 대상에 포함하는 한편, 어느 한 나라에서 먼저 특허등록된 공통출원에 대해서는 상대 국가의 우선심사 신청에 필요한 서류 중 일부를 면제함으로써, 간편한 절차를 통하여 신속하게 심사하는 제도로서, 올해 4월 1일부터 한·일 양국간에 시행되고 있다.

특허심사하이웨이를 이용할 경우, 양국 특허청은 상대국의 심사결과를 직접 활용할 수 있게 되어, 심사처리기간의 단축과 심사품질의 향상을 도모할 수 있게 되고, 출원인은 보다 신속하게 심사결과를 받아볼 수 있을 뿐 아니라, 절차간소화와 비용절감 등의 효과를 누릴 수 있게 된다.

한국과 일본 사이에 실시되고 있는 특허심사하이웨이 제도는, 아직 시행 초기인 관계로 이용 건수가 많지는 않지만, 양국 특허청은 홍보 및 설명회 등을 개최하여 출원인에게 특허심사하이웨이의 이용방법, 장점 및 효과 등에 대한 정보를 제공함으로써, 제도 이용 확대를 도모할 계획이다.

양국 특허청장은 그간 진행되어 온 양국간 공동선행기술조사, 상표·디자인·정보화 전문가 회의 등 분야별 협력 프로그램의 성과를 높이 평가하고 올해 처음으로 개최되는 특허 전문가 회의 및 내년 개통을 목표로 추진 중인 양국간 우선권주장 증명서류의 3극망을 통한 전자적 교환 사업, 한·중·일 3국간 특허 협력 로드맵 및 한·미·EU·중·일 5개국간 특허청장 회담 등에 대해 의견을 교환함으로써, 국제무대에서의 양국간 협력을 더욱 공고히 할 수 있을 것으로 기대된다.

고에즈카 마사히로 일본 특허청장은 11월 26일 입국하여, 과기부, 산자부 및 한국지식재산연구원(KIIP) 등을 방문하고, 27일 대전 특허청에서 제19차 한·일 특허청장회담을 마친 후, 이날 저녁 일본으로 출발할 예정이다.

붙임 : [참고자료] 가 포함된 보도자료 1부
문의 : 산업재산정책본부 국제협력팀 사무관 이진용 (042-481-5069)